Arşiv logosu
  • Türkçe
  • English
  • Giriş
    Yeni kullanıcı mısınız? Kayıt için tıklayın. Şifrenizi mi unuttunuz?
Arşiv logosu
  • Koleksiyonlar
  • Sistem İçeriği
  • Analiz
  • Talep/Soru
  • Türkçe
  • English
  • Giriş
    Yeni kullanıcı mısınız? Kayıt için tıklayın. Şifrenizi mi unuttunuz?
  1. Ana Sayfa
  2. Yazara Göre Listele

Yazar "Obaid, Masoud Giyathaddin" seçeneğine göre listele

Listeleniyor 1 - 2 / 2
Sayfa Başına Sonuç
Sıralama seçenekleri
  • Yükleniyor...
    Küçük Resim
    Öğe
    Electrical and photoelectrical characterization of Au/n-Si diode with sputtered ZrO2 interlayer
    (Springer, 2023) Obaid, Masoud Giyathaddin; Ocak, Yusuf Selim; Albiss, Borhan Aldeen; Benhaliliba, Mostefa
    ZrO2 thin films were deposited on n-Si and quartz substrates by a reactive sputtering technique. The morphological and optical characterization of a sputtered ZrO2 thin film revealed a highly smooth surface with 1.5 nm roughness and optical band gap value of 5.7 eV. An Au/ZrO2/n-Si metal–insulator-semiconductor (MIS) structure was obtained by evaporation of the Au on ZrO2/n-Si structure. The electrical properties analyzed by current–voltage (I-V) measurements in the dark showed that the device had 5. 094 ideality factor, 0.808 eV barrier height, and 50 Ω series resistance values. The C-V measurements showed that the device could not follow the AC signals at higher frequencies owing to the interface states, and the barrier height value calculated using C-V data (0.916 eV) is higher than the one obtained from the I-V plot. The photoelectrical parameters were determined by I-V measurements at various light intensities. The findings proved that the photoelectrical parameters of the MIS device had a photosensing behavior.
  • Yükleniyor...
    Küçük Resim
    Öğe
    Elektrical and photoelectrical characterization of Au/ZrO2/n-Si MIS contact
    (2016) Obaid, Masoud Giyathaddin; Ocak, Yusuf Selim
    Metal yalıtkan yarıiletken (MIS) kontaklar birçok yarıiletken aygıtların en önemli bileşenlerinden biridir. Günümüzde klasik SiO2 kapı oksiti yerine yüksek dielektrik sabite sahip yalıtkan tabakaların kullanılması çokça çalışılmaktadır. Zirkonya geniş band aralığı (5-8 eV) ve yüksek dielektrik sabiti (? ? 25) ile bu amaç için en önemli adaylardan biridir. Bu çalışmada, Au/ZrO2/n-Si MIS yapısı ZrO2 ince filminin n-Si alttaş üzerinde büyütülmesi ve ince film üzerine Au buharlaştırılması ile oluşturulmuştur. Au/ZrO2/n-Si MIS yapısının elektrik ve fotoelektrik karakterizasyonu oda sıcaklığında karanlıkta ve farklı ışık şiddetinde alınan akım-gerilim (I-V) ölçümleri ile belirlenmiştir. Ayrıca, Au/ZrO2/n-Si MIS yapısının kapasite-gerilim (C-V) karakteristiği incelenmiş ve her iki yöntem ile elde edilen engel yüksekliği değerleri karşılaştırılmıştır.

| Dicle Üniversitesi | Kütüphane | Açık Erişim Politikası | Rehber | OAI-PMH |

Bu site Creative Commons Alıntı-Gayri Ticari-Türetilemez 4.0 Uluslararası Lisansı ile korunmaktadır.


Dicle Üniversitesi, Diyarbakır, TÜRKİYE
İçerikte herhangi bir hata görürseniz lütfen bize bildirin

Powered by İdeal DSpace

DSpace yazılımı telif hakkı © 2002-2025 LYRASIS

  • Çerez Ayarları
  • Gizlilik Politikası
  • Son Kullanıcı Sözleşmesi
  • Geri Bildirim