Anestezi uygulamalarında düşük akım desfluran ile yüksek akım desfluranın oksidatif stres ve DNA hasarı üzerindeki etkilerinin karşılaştırılması

Giriş ve Amaç: Günümüzde özellikle ekolojik kirlenme göz önünde bulundurularak yeni ve gelişmiş anestezi cihazlarının artması düşük akım anesteziye duyulan ilgiyi artmıştır. Aynı zamanda maliyeti azaltması, hastanın daha yakından takip edilmesi, intraoperatif ısı ve nem kaybının azalması gibi durumlar anestezistlerin düşük akım anestezi kullanımını arttırmıştır. Biz bu çalışmada düşük akım anestezi uygulamasının yüksek akım anesteziye göre oksidatif stress ve DNA hasarı açısından farklılığının olup olmadığını değerlendirmek istedik. Gereç ve Yöntem: Bu çalışmaya 18 – 70 yaş arası, ASA I-II fiziksel statüsüne sahip, üç saat ve üzerinde genel anestezi uygulanan 60 hasta dâhil edildi. Hastalar intraoperatif desfluran akım hızına göre iki gruba ayrıldı. Düşük akım anestezi uygulanan hastalar (0,5lt/dk) Grup I, yüksek akım anestezi uygulanan hastalar (4lt/dk) Grup II olarak isimlendirildi. Hastaların hemodinamik parametreleri, ETCO2 bazal değerleri, indiksiyon sonrası, entübasyon sonrası 5, 10, 20 ve sonrasında her 15 dakikada bir kaydedildi. Hastalardan preoperatif, intraoperatif üçüncü saat ve postoperatif yirmidördüncü saatte oksidatif stres ve DNA hasarı değerlendirilmesi için TAS, TOS, MDA, Sistatin-C,8-OHdG ve LPO parametreleri çalışıldı. Bulgular: Hastalardan preoperatif, intraoperatif ve postoperatif alınan kanlardan DNA hasarı için 8-OhdG, oksidatif stress için de MDA, LPO, Sistatin C, TAS, TOS bakıldı. Postoperatif bakılan MDA değeri yüksek akım grubunda düşük akım grubuna göre anlamlı olarak daha yüksek bulundu.(p<0,05).TAS, TOS, Sistatin-C ve 8OhdG açısından gruplar karşılaştırıldığında gruplar arası anlamlı bir fark saptamadı (p>0,05). Sonuç: Sonuç olarak çalışmamızda düşük akım desflurane grubunda DNA hasarı açısından yüksek akım desflurane grubuna göre biyoistatistiksel olarak anlamlı bir fark bulunmadığını ve yüksek akım desflurane uygulamasında anlamlı olarak oksidatif stresin arttığını gördük.

Introduction and Objective: Today, the increase in new and advanced anesthesia devices, especially considering the ecological pollution, has increased the interest in low flow anesthesia.At the same time, conditions such as cost reduction, closer follow-up of the patient, and reduction of intraoperative heat and moisture loss have increased the use of low flow anesthesia by anesthesiologists.In this study, we wanted to evaluate whether low-flow anesthesia is different from high-flow anesthesia in terms of oxidative stress and DNA damage. Materials and Methods: Sixty patients, aged between 18 and 70, with ASA I-II physical status, who underwent general anesthesia for three hours or more were included in this study.The patients were divided into two groups according to the intraoperative desflurane flow rate.Patients who underwent low-flow anesthesia (0.5lt/min) were named Group I, and patients who were administered high-flow anesthesia (4lt/min) were named Group II.The hemodynamic parameters, ETCO2 baseline values of the patients were recorded after induction, after intubation at 5, 10, 20 and every 15 minutes thereafter.TAS, TOS, MDA, Cystatin-C,8-OHdG and LPO parameters were studied for the evaluation of oxidative stress and DNA damage in the preoperative, intraoperative third hour and postoperative 24 hour. Results: 8-OhdG for DNA damage and MDA, LPO, Cystatin C, TAS, TOS were measured for oxidative stress from the preoperative, intraoperative and postoperative blood samples taken from the patients.Postoperative MDA value was found to be significantly higher in the high flow group than in the low flow group (p<0.05).When the groups were compared in terms of TAS, TOS, Cystatin-C and 8OhdG, no significant difference was found between the groups (p>0.05). Conclusion: In conclusion, in our study, we found that there was no biostatistically significant difference in DNA damage in the low-flow desflurane group compared to the high-flow desflurane group, and oxidative stress increased significantly in high-flow desflurane application.