Metal/organik/inorganik yarıiletken yapıların sıcaklığa bağlı olarak elektriksel ve optik parametrelerinin belirlenmesi
Abstract
Bu çalışmada (100) yöneliminde, 500 μm kalınlıkta, oda sıcaklığında 1-10 Ω.cm
özdirence sahip n-tipi Si kristali ile yine (100) yöneliminde olan, 270 μm kalınlıkta ve oda
sıcaklığında 1-10 Ω.cm özdirence sahip p-tipi Si kristali kullanıldı. Omik kontaklı n-Si ve p-Si
yarıiletkenlerin parlak yüzeyinde 9,10-Dihydrobenzo[a]pyrene-7(8H)-one (9,10-H2BaP) organik
bileşiğine ait çözeltinin buharlaşması için kısa bir süre beklenerek, bu yüzeyler üzerinde organik
ince film tabakası oluşturuldu. Schottky kontakları elde edebilmek için her iki numunenin
organik ince film kaplı tarafına, yaklaşık 210-6 Torr basınç altındta Ag metali 1.5 mm çapında
dairesel noktalar olacak şekilde termal olarak buharlaştırıldı. Böylece Ag/9,10-H2BaP/n-Si/AuSb
ve Ag/9,10-H2BaP/p-Si/Al Schottky diyotları elde edildi.
Kuartz yüzey üzerindeki 9,10-Dihydrobenzo[a]pyrene-7(8H)-one (9,10-H2BaP) organik
ince filmin absorbans spektrumu kullanılarak, 9,10-H2BaP organik ince filminin optik bant
aralığı elde edildi. Ayrıca Ag/9,10-H2BaP/n-Si/Au-Sb ve Ag/9,10-H2BaP/p-Si/Al diyotlarının IV
ölçümleri 40-100 mW/cm2 ışık şideti altında ölçülerek, yapıların ışığa karşı duyarlılıkları ve
fotoelektriksel özellikleri incelendi. Her iki diyot için ışık şiddeti arttıkça, ters beslem akımının
da arttığı gözlendi. Böylece yapıların fotodiyot özelliği gösterdiği ve optoelektronik
uygulamalarda kullanılabileceği belirlendi.
Elde edilen Ag/9,10-H2BaP/n-Si/Au-Sb ve Ag/9,10-H2BaP/p-Si/Al diyotlarının
80 K'den 280 K'ne 40 K'lik adımlarla ve 280 K'den 360 K'ne 20 K'lik adımlarla I-V, C-V ve
G/ω-V ölçümleri alındı. I-V grafiklerinden engel yükseklikleri ve idealite faktörleri bulundu.
Elde edilen engel yüksekliğinin artan sıcaklıkla arttığı, idealite faktörünün ise azaldığı görüldü.
Bu durum, engelin yanal inhomojenliğine atfedildi. Ayrıca I-V ölçümlerinden yararlanılarak,
yüksek ve düşük sıcaklık bölgeleri için Richardson eğrileri çizildi. Bu eğrilerden ortalama engel
yüksekliği ve Richardson sabiti değerleri bulundu. Yine engel yüksekliği-sıcaklık
grafiklerinden, her iki sıcaklık bölgesi için ortalama engel yüksekliği ve standart sapma
değerleri elde edildi.
Ag/9,10-H2BaP/n-Si/Au-Sb ve Ag/9,10-H2BaP/p-Si/Al diyotlarının 1 MHz'de 80-360 K
sıcaklık aralığında C-V ve G/ω-V ölçümleri alındı ve bu ölçümlere ait grafikler çizildi. C-V
grafikleri yardımıyla her iki diyot için difüzyon potansiyeli, engel yüksekliği ve Fermi enerji
seviyesi değerleri elde edildi. Kapasite ve kondüktansın artan sıcaklıkla arttığı görüldü. Ayrıca
Ag/9,10-H2BaP/n-Si/Au-Sb ve Ag/9,10-H2BaP/p-Si/Al diyotlarının oda sıcaklığında ve geniş
bir frekans aralığında C-V ve G/ω-V karakteristikleri incelendi. Artan frekansla kapasite ve
kondüktans değerlerinin azaldığı görüldü. Bu durumun artan frekansa bağlı olarak, arayüzey
durumlarının (Nss) ac sinyalini izleyememesiyle açıklandı.
VI
Ag/9,10-H2BaP/n-Si/Au-Sb ve Ag/9,10-H2BaP/p-Si/Al diyotlarının sıcaklığa bağlı
C-V-T ve G/ω-V-T ve frekansa bağlı C-V-f ve G/ω-V-f ölçümlerinden yapıların dielektrik
özellikleri; dielektrik sabiti ( '), dielektrik kayıp ( ''), kayıp tanjant ( tan ), elektrik
modülleri ( M ' ve M '') ve ac elektriksel iletkenlik ( ) ac değerleri elde edildi. Elde edilen bu
parametrelerin, sıcaklık ve frekansa karşı değişimleri incelendi. Deneysel sonuçlar, dielektrik
parametrelerinin oldukça kuvvetli bir şekilde sıcaklık ve frekansa bağımlı olduğunu gösterdi.
Anahtar Kelimeler: Metal/Organik/İnorganik Yarıiletken Kontaklar, Ölçüm Sıcaklığı,
Schottky Diyotlar, Schottky Engel Yüksekliği, Engel İnhomojenliği, Dielektrik Özellikler, ac
Elektriksel İletkenlik, Arayüzey Durumları, Optik Bant Aralığı. In this study (100) orientation, 500 μm thickness, at the room temperature having 1-10
Ω.cm resistivity n-type Si wafer at the room temperature with another (100) orientation, 270 μm
thickness and p-type Si wafer having 1-10 Ω.cm resistivity at the room temperature were used.
After waiting a short period of time for evaporating, the solution that belongs to the organic
compound of 9,10-Dihydrobenzo[a]pyrene-7(8H)-one (9,10-H2BaP) on the bright surface of nSi
and p-Si semiconductors that was made ohmic contact, an organic thin film layer was
generated on these surfaces. To able to obtain Schottky contacts Ag metal was evaporated
thermally about under 210-6 Torr on the sides that were organic thin film coated of each two
samples were evaporated with 1.5 mm diameter circular dots. Thus Ag/9,10-H2BaP/n-Si/Au-Sb
and Ag/9,10-H2BaP/p-Si/Al Schottky diodes were obtained.
Optical band gap of 9,10-H2BaP organic thin film was obtained using absorbance
spectrum of 9,10-Dihydrobenzo[a]pyrene-7(8H)-one (9,10-H2BaP) organic thin film on the
quartz surface. In addition, I-V measurements of Ag/9,10-H2BaP/n-Si/Au-Sb and Ag/9,10-
H2BaP/p-Si/Al diodes measured under light which had intensity of 40-100 mW/cm2
and these
structures were investigated sensitivities against light and photoelectrical properties. It is
observed for both diodes that the reverse bias current of the diodes with increasing the light
intensity, increases also. Thus the structures determined that the photodiode property and can be
used in optoelectronic applications.
Obtained Ag/9,10-H2BaP/n-Si/Au-Sb and Ag/9,10-H2BaP/p-Si/Al diodes were taken
I-V, C-V and G/ω-V measurements with 40 K steps from 80 K to 280 K and with 20 K steps
from 280 K to 360 K. Barrier heights and ideality factors were found from I-V graphics. It was
seen that the obtained barrier height was increased with the increasing temperature, but the
ideality factor was decreased. This situation was attributed to the lateral inhomogeneity of the
barrier. Also Richardson plots were drawn with the help of I-V measurements for high and
low temperature regions. From these plots, the mean barrier height and Richardson constant
values were found. Furthermore, the mean barrier height and standard deviation values were
obtained from barrier height-temperature graphics.
The C-V and G/ω-V measurements of Ag/9,10-H2BaP/n-Si/Au-Sb and Ag/9,10-
H2BaP/p-Si/Al diodes were taken at 1 MHz in the 80-360 K temperature range and the graphics
of these measurements were drawn. For both diodes diffusion potential, barrier height and
Fermi energy level values were obtained with the help of C-V graphics. It was seen that the
capacitance and conductance increased with increasing temperature. Also C-V and G/ω-V
characteristics of Ag/9,10-H2BaP/n-Si/Au-Sb and Ag/9,10-H2BaP/p-Si/Al diodes were
examined at room temperature and in a wide frequency range. It was seen that the capacitance
VIII
and conductance values were decreased with the increasing frequency. This situation was
explained as dependent on increasing frequency, that interface states (Nss) cannot follow the ac
signal.
Dielectric properties; dielectric constant ( '), dielectric loss ( ''), loss tangent ( tan ),
electric modulus ( M ' and M '') and ac electrical conductivity ( ) ac values of structures were
obtained from the measurements of C-V-f and G/ω-V-f that depend on frequency and C-V-T and
G/ω-V-T that depend on temperature of Ag/9,10-H2BaP/n-Si/Au-Sb and Ag/9,10-H2BaP/p-Si/Al
diodes. Changes of the obtained these parameters were examined against temperature and
frequency. Experimental results have showed that the dielectric parameters were quite strongly
temperature and frequency dependent.
Keywords: Metal/Organic/Inorganic Semiconductor Contacts, Measurement Temperature,
Schottky Diodes, Schottky Barrier Height, Barrier Inhomogeneity, Dielectric Properties, ac
Electrical Conductivity, Interface States, Optical Band Gap.